太陽光線里的紫外線照射，會(huì)導(dǎo)致人體形成含氧自由基，從而給人體細(xì)胞帶來損傷并加速機(jī)體衰老。炎炎夏日，做好紫外線防護(hù)成為人們尤其是愛美人士的重要需求。而市場(chǎng)上各大化妝品企業(yè)的防曬產(chǎn)品種類繁多，令人眼花繚亂，某些產(chǎn)品無人問津，某些產(chǎn)品瞬間售罄，小小防曬產(chǎn)品隱藏著哪些不為人知的技術(shù)?本文中，筆者從專利的角度對(duì)防曬技術(shù)進(jìn)行分析。

  基于防曬原理的不同，目前的防曬技術(shù)基本分為兩類，物理防曬和化學(xué)防曬。物理防曬，是利用二氧化鈦或氧化鋅等顆粒，通過物理遮蓋的方式，阻擋、反射或散射紫外線，使到達(dá)皮膚的紫外線量得以減少以達(dá)到防曬的目的。物理防曬通常停留在皮膚表面，不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，對(duì)皮膚較溫和安全，但物理防曬劑通常存在使皮膚泛白、易搓泥等缺陷。化學(xué)防曬，是通過化學(xué)防曬劑吸收有害的紫外線而實(shí)現(xiàn)防曬功能，由于化學(xué)防曬劑分子往往小于物理防曬顆粒，易于被皮膚吸收，因此對(duì)皮膚有一定的刺激性，存在安全性較弱等缺陷，油溶性化學(xué)防曬劑還容易導(dǎo)致油膩的不良使用感受等問題。

  為了同時(shí)達(dá)到高防曬力和溫和性，很多產(chǎn)品將物理防曬和化學(xué)防曬相結(jié)合，但高防曬力的實(shí)現(xiàn)往往以降低用戶的使用感受為代價(jià)。因此，一款好的防曬產(chǎn)品，通常需要解決提高防曬指數(shù)，同時(shí)兼顧使用感、安全性、穩(wěn)定性、抗水抗汗等多方面的技術(shù)問題。

  國(guó)外企業(yè)占先機(jī)

  專利量能夠很好地反映企業(yè)的技術(shù)實(shí)力。從1995年至2015年我國(guó)防曬專利授權(quán)量來看，擁有防曬專利最多的申請(qǐng)人依次是：歐萊雅、日本資生堂、聯(lián)合利華、巴斯夫和花王，均是來自歐洲和日本的公司，這些公司從上世紀(jì)90年代就開始向我國(guó)提交關(guān)于防曬產(chǎn)品的專利申請(qǐng)，搶占了發(fā)展先機(jī)。

  從授權(quán)率來看，歐萊雅、巴斯夫的防曬專利申請(qǐng)授權(quán)率在50%左右，資生堂、花王、聯(lián)合利華的防曬專利申請(qǐng)授權(quán)率均達(dá)到了60%至70%。歐萊雅的Mexoryl SX、Mexoryl XL，資生堂的艷陽夏、安耐曬系列防曬產(chǎn)品，以及巴斯夫的防曬原料Z-Cote、Z-Cote Max均不同程度地采用了創(chuàng)新技術(shù)，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了從專利到產(chǎn)品的轉(zhuǎn)化。

  國(guó)內(nèi)企業(yè)尋突破

  隨著科學(xué)水平的不斷發(fā)展和生活水平的提高，人們?nèi)找嬲J(rèn)識(shí)到紫外線照射防護(hù)的重要性，但目前市場(chǎng)上的防曬產(chǎn)品仍然存在防曬持續(xù)時(shí)間短、使用感受差、刺激性強(qiáng)、產(chǎn)品形式單一等缺陷，消費(fèi)者強(qiáng)烈希望市場(chǎng)推出具有高安全性、強(qiáng)防曬力、良好使用感受、高性價(jià)比的防曬產(chǎn)品，因此防曬技術(shù)的開發(fā)和利用擁有廣闊的市場(chǎng)前景。

  筆者認(rèn)為，雖然國(guó)外企業(yè)在防曬品市場(chǎng)占據(jù)了發(fā)展先機(jī)，但中國(guó)的消費(fèi)群體巨大，消費(fèi)者日益增長(zhǎng)的消費(fèi)需求遠(yuǎn)未被滿足，國(guó)內(nèi)企業(yè)可以從多方面尋求突破。

  首先，國(guó)內(nèi)企業(yè)應(yīng)當(dāng)根據(jù)市場(chǎng)需求，拓寬創(chuàng)新思路。如今，消費(fèi)者對(duì)防曬產(chǎn)品的需求日益多樣化，例如防曬效果的持久性、兒童防曬的安全性、戶外防曬的抗水抗汗性以及產(chǎn)品形式的新穎性，這些需求都沒有被充分滿足，因此根據(jù)市場(chǎng)需求，拓寬創(chuàng)新思路是非常重要的。

  其次，國(guó)內(nèi)企業(yè)可以加強(qiáng)技術(shù)挖掘和突破。防曬產(chǎn)品的開發(fā)需要考慮多方面的問題，技術(shù)難題較多，國(guó)內(nèi)企業(yè)可以充分利用專利公開換保護(hù)的規(guī)則，通過對(duì)已公開專利的技術(shù)內(nèi)容的分析，了解其中的技術(shù)缺陷，尋找可以解決和創(chuàng)新的技術(shù)手段，實(shí)現(xiàn)專利突破。

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